文献类型：专利

中文题名：一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置

作者：张薇薇[1];

第一作者：张薇薇

机构：[1]甘肃中医药大学;

第一机构：甘肃中医药大学

专利类型：实用新型

申请号：CN201920779446.7

申请日：20190528

申请人地址：730000 甘肃省兰州市城关区定西东路35号

公开日：20200131

代理人：瞿晓晶

代理机构：11569 北京高沃律师事务所

语种：中文

中文关键词：趋磁细菌;本实用新型;活塞;过气管;气体源;注射器;去除;西林瓶;进气口;操作过程;生长环境;装置成本;出气口;氮气源;氧气源;需氧;针头;填充;细菌;棉花;污染;保证

年份：2020

摘要：本实用新型涉及一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置，属于趋磁细菌培养技术领域。本实用新型所述控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置包括：气体源(1)、西林瓶(2)和过气管(3)；所述气体源(1)包括氮气源和氧气源；所述过气管(3)的进气口与气体源(1)连接；所述过气管(3)的出气口连接有去除活塞的注射器(4)，去除活塞的注射器(4)的针头用于与西林瓶(2)相连；所述去除活塞的注射器(4)内填充棉花(5)。本实用新型所述装置简单易操作，不但能满足趋磁细菌生长环境中微需氧的要求，而且还可以保证操作过程中细菌不易受到污染。该装置成本低廉，简单易行。